Intenzívna revitalizačná maska s morskými riasami SKIN79 Skin Relaxer Algae Modeling Mask Nourishing
Základný prehľad
-
Bez parfumácie a esenc. olejovNeobsahuje potenciálne iritujúcu parfumáciu
NIE -
Bez silikónovNeobsahuje ťažko zmývateľné silikóny
ÁNO -
Bez alkoholuNeobsahuje potenciálne iritujúci, nemastný alkohol
ÁNO -
Bez sulfátovNeobsahuje potenciálne škodlivé sulfáty
ÁNO -
Bez lepkuNeobsahuje lepok
ÁNO -
Bez parabénovNeobsahuje potenciálne škodlivé parabény
ÁNO
Zloženie (INCI)
SKIN79 Skin Relaxer Algae Modeling Mask Nourishing obsahuje 26 zložiek, z toho 16 zložiek v kategórii s nízkym rizikom, 6 zložiek v kategórii so stredným rizikom a 2 zložkám by ste mali venovať zvýšenú pozornosť, obzvlášť ak sú na začiatku zoznamu zložiek.
Údaje čerpáme z databázy Skin Deep®, ktorá je celosvetovo uznávaná stupnica na hodnotenie bezpečnosti kozmetiky. Viac informácií o tom, ako chápať stupeň škodlivosti a naučiť sa čítať zloženie kozmetiky.
Zložky podľa typu pleti
Suchá pleť
Dobré pre suchú pleť sodium hyaluronate, glycerin, butylene glycol
Zlé pre suchú pleť menthol
Mastná pleť
Dobré pre mastnú pleť glycyrrhiza glabra root extract, allantoin
Zlé pre mastnú pleť
Citlivá pleť
Dobré pre citlivú pleť titanium dioxide, allantoin, sodium hyaluronate
Zlé pre citlivú pleť menthol, fragrance, benzyl salicylate, linalool
Prehľad zložiek
Zaujímajte sa o kozmetiku ako profesionál! Ak ste zvedaví, čo môžete očakávať od produktu SKIN79 Skin Relaxer Algae Modeling Mask Nourishing, prečítajte si prehľad zložiek, v ktorom nájdete informácie o tom, aké benefity môžete od neho očakávať.
Anti-akné
redukújú počet vyrážok a bránia ich vzniku
#14glycyrrhiza glabra root extract
Podpora komunikácie buniek
dokážu prikázať bunkám, aby sa správali ako nové a zdravé bunky
#26acetyl hexapeptide-8
Rozjasňujúce zložky
zosvetlujú hnedé škvrny spôsobené slnkom alebo PIH
#14glycyrrhiza glabra root extract
Pleti identické zložky
prirodzene sa nachádzajú v pleti alebo napodobňujú správanie zložiek v pleti
#15allantoin
#16sodium hyaluronate
#19glycerin
Upokojujúce zložky
pomáhajú upokojiť podráždenú pokožku
#14glycyrrhiza glabra root extract
#15allantoin
#17menthol
Slnečná ochrana
chránia pred slnečným žiarením
#9titanium dioxide
Abrazívne/Peelingové zložky
vyhladzujú a rozjasňujú pleť
#2diatomaceous earth
#4zea mays starch
#6calcium sulfate
Absorbenty/Zmatňujúce zložky
pomáhajú absorbovať tekutiny ako vodu alebo olej
#1maltodextrin
#4zea mays starch
Pufračné zložky
udržiavajú správnu rovnováhu kyslosti/zásaditosti produktu
#8tetrasodium pyrophosphate
Chelatačné zložky
vychytáva z produktu ióny kovov a stabilizuje formulu
#8tetrasodium pyrophosphate
Farbivá
dodávajú kozmetickým výrobkom farbu
#7mica
#9titanium dioxide
#10ci 77491
#25gold
Zvláčňovače/Emolienty
zmäkčujú a zvláčňujú pokožku
#14glycyrrhiza glabra root extract
Zvlhčovače/Humektanty
zadržiavajú a uchovávajú vlhkosť v pokožke a vo vlasoch
#3glucose
#14glycyrrhiza glabra root extract
#15allantoin
#16sodium hyaluronate
#19glycerin
#21butylene glycol
#26acetyl hexapeptide-8
Vonné zložky
dodávajú produktu príjemnú vôňu
#18fragrance
#22butylphenyl methylpropional
#23benzyl salicylate
#24linalool
Konzervačné zložky
predlžujú trvanlivosť výrobku
#11sodium benzoate
#12potassium sorbate
Rozpúšťadlá
rozpúšťajú iné látky
#201,2-hexanediol
#21butylene glycol
Regulátory viskozity
udržiavajú stabilitu zloženia, vzhľadu a textúry produktu
#4zea mays starch
#5algin
#21butylene glycol
Dezodoračné zložky
látky obmedzujúce činnosť baktérií na pokožke, rozklad potu a vznik zápachu
#24linalool
Značka
Kategória
Objem
150 g
Nahlásiť chybu: SKIN79 Skin Relaxer Algae Modeling Mask Nourishing