hĺbkovo čistiaca maska pre hydratáciu pleti a minimalizáciu pórov Heimish Anti Dust hĺbkovo čistiaca maska pre hydratáciu pleti a minimalizáciu pórov
Základný prehľad
-
Bez alkoholuNeobsahuje potenciálne iritujúci, nemastný alkohol
ÁNO -
Bez sulfátovNeobsahuje potenciálne škodlivé sulfáty
ÁNO -
Bez parabénovNeobsahuje potenciálne škodlivé parabény
ÁNO -
Bez silikónovNeobsahuje ťažko zmývateľné silikóny
ÁNO -
Bez parfumácie a esenc. olejovNeobsahuje potenciálne iritujúcu parfumáciu
NIE -
Bez lepkuNeobsahuje lepok
ÁNO -
Cruelty-free Netestované na zvieratách
ÁNO
Popis produktu
Čistiaca maska Heimish Anti Dust skvele vyčistí vašu pleť a zbaví ju zvyškov make-upu a iných nečistôt. Získajte sviežu a krásne čistú tvár.Vlastnosti:uvoľňuje nečistoty v póroch a sťahuje ichabsorbuje prebytočný kožný mazpôsobí regeneračneintenzívne pleť zvlhčujePoužitie:Masku naneste v tenkej vrstve na vyčistenú tvár, vyhnite sa oblasti očí. Nechajte pôsobiť v čase uvedenom na obale. Potom masku dôkladne zmyte vlažnou vodou.
Zloženie (INCI)
Heimish Anti Dust hĺbkovo čistiaca maska pre hydratáciu pleti a minimalizáciu pórov obsahuje 20 zložiek, z toho 15 zložiek v kategórii s nízkym rizikom, 3 zložky v kategórii so stredným rizikom a 1 zložke by ste mali venovať zvýšenú pozornosť, obzvlášť ak je na začiatku zoznamu zložiek.
Údaje čerpáme z databázy Skin Deep®, ktorá je celosvetovo uznávaná stupnica na hodnotenie bezpečnosti kozmetiky. Viac informácií o tom, ako chápať stupeň škodlivosti a naučiť sa čítať zloženie kozmetiky.
Zložky podľa typu pleti
Suchá pleť
Dobré pre suchú pleť glycerin, butylene glycol
Zlé pre suchú pleť
Citlivá pleť
Dobré pre citlivú pleť centella asiatica extract, madecassoside, asiaticoside
Zlé pre citlivú pleť fragrance, limonene
Prehľad zložiek
Zaujímajte sa o kozmetiku ako profesionál! Ak ste zvedaví, čo môžete očakávať od produktu Heimish Anti Dust hĺbkovo čistiaca maska pre hydratáciu pleti a minimalizáciu pórov , prečítajte si prehľad zložiek, v ktorom nájdete informácie o tom, aké benefity môžete od neho očakávať.
Antioxidanty
bránia predčasnému starnutiu a zvyšujú odolnosť pleti
#8portulaca oleracea extract
#9centella asiatica extract
#10madecassoside
#11asiaticoside
Pleti identické zložky
prirodzene sa nachádzajú v pleti alebo napodobňujú správanie zložiek v pleti
#6glycerin
#16disodium edta
Upokojujúce zložky
pomáhajú upokojiť podráždenú pokožku
#8portulaca oleracea extract
#9centella asiatica extract
#10madecassoside
#11asiaticoside
Absorbenty/Zmatňujúce zložky
pomáhajú absorbovať tekutiny ako vodu alebo olej
#5cellulose
#13dextrin
Pufračné zložky
udržiavajú správnu rovnováhu kyslosti/zásaditosti produktu
#15sodium hydroxide
#16disodium edta
Chelatačné zložky
vychytáva z produktu ióny kovov a stabilizuje formulu
#16disodium edta
Emulgátory
pomáha nemiešateľným kvapalinám vytvoriť roztok
#5cellulose
Zvlhčovače/Humektanty
zadržiavajú a uchovávajú vlhkosť v pokožke a vo vlasoch
#6glycerin
#8portulaca oleracea extract
#9centella asiatica extract
#13dextrin
#14butylene glycol
Vonné zložky
dodávajú produktu príjemnú vôňu
#11asiaticoside
#19fragrance
#20limonene
Konzervačné zložky
predlžujú trvanlivosť výrobku
#17phenoxyethanol
Rozpúšťadlá
rozpúšťajú iné látky
#1water
#3methyl perfluoroisobutyl ether
#14butylene glycol
#181,2-hexanediol
#20limonene
Čistiace/Peniace zložky
odstraňujú nečistoty a mastnotu, môžu vytvárať penu
#2coco-glucoside
#5cellulose
#7potassium cocoyl glycinate
#9centella asiatica extract
Regulátory viskozity
udržiavajú stabilitu zloženia, vzhľadu a textúry produktu
#3methyl perfluoroisobutyl ether
#4acrylates copolymer
#5cellulose
#13dextrin
#14butylene glycol
#16disodium edta
Dezodoračné zložky
látky obmedzujúce činnosť baktérií na pokožke, rozklad potu a vznik zápachu
#20limonene
Značka
Kategória
Objem
250 ml
Nahlásiť chybu: Heimish Anti Dust hĺbkovo čistiaca maska pre hydratáciu pleti a minimalizáciu pórov